DB500擁有自主可控的場發射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒,是一款優雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術(SuperTunnel)、低像差無漏磁物鏡設計,低電壓高分辨率成像,保證納米分析能力。“承影”離子鏡筒采用液態鎵離子源,擁有高穩定、高質量的離子束流,保證納米加工能力。集成式的納米機械手、氣體注入器、電子物鏡防污染機構,擁有24個擴展口,配置全面,自主可控,擴展性強,為您打造全能納米分析和加工中心。
DB500擁有自主可控的場發射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒,是一款優雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術(SuperTunnel)、低像差無漏磁物鏡設計,低電壓高分辨率成像,保證納米分析能力。“承影”離子鏡筒采用液態鎵離子源,擁有高穩定、高質量的離子束流,保證納米加工能力。集成式的納米機械手、氣體注入器、電子物鏡防污染機構,擁有24個擴展口,配置全面,自主可控,擴展性強,為您打造全能納米分析和加工中心。
010- 82900840
高壓隧道技術
鎵離子束
配置全面
氣體注入器
集成式機械手
質保無憂
產品優勢
高壓隧道技術和無漏磁物鏡的電子鏡筒,高分辨率成像,兼容磁性樣品
“承影”離子鏡筒,高穩定、高質量的離子束流,用于高質量納米加工和TEM制樣樣品倉內壓電陶瓷驅動的機械手,集成式控制方式,操作精準到位
自主可控,擴展性強,集成化設計的離子源更換時間快,極致的售后服務,提供免費的三年質保無憂服務
技術介紹
離子鏡筒"承影"
技術特點
分辨率:3 nm@30 kV
探針電流:1 pA~50 nA
加速電壓范圍:500 V~30 kV
使用壽命:≥1000小時
長時間穩定性:72小時不間斷工作
納米機械手
技術特點
倉內安裝方式
三軸全壓電驅動
步進精度≤10nm
最大移動速度2mm/s
集成式控制方式
離子束-電子束協同
氣體注入器
單氣體注入
多種氣源可選
伸縮距離≥35 mm
重復定位精度≤10 um
加熱溫度控制精度≤0.1℃
加熱溫度范圍:室溫~90℃
集成式控制方式
應用案例
金線/30 kV/800X/ETD
芯片/1 kV/1500X/ETD
芯片/1 kV/15000X/ETD
產品參數
電子束系統 | 電子槍類型 | 高亮度肖特基場發射電子槍 |
分辨率 | 1.2 nm@15 kV | |
加速電壓 | 20 V ~ 30 kV | |
離子束系統 | 離子源類型 | 液態鎵離子源 |
分辨率 | 3 nm@30 kV | |
加速電壓 | 500 V ~ 30 kV | |
樣品室 | 真空系統 | 全自動控制,無油真空系統 |
攝像頭 | 三攝像頭 | |
(光學導航+樣品倉內監控x2) | ||
樣品臺類型 | 五軸機械優中心樣品臺 | |
樣品臺行程 | X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm | |
T: -10°~+70°,R: 360° | ||
探測器和擴展 | 標配 | 鏡筒內電子探測器 |
旁側二次電子探測器(ETD) | ||
選配 | 插入式背散射電子探測器(BSED) | |
插入式掃描透射探測器(STEM) | ||
能譜儀(EDS) | ||
背散射衍射(EBSD) | ||
納米機械手 | ||
氣體注入器 | ||
等離子清洗 | ||
樣品交換倉 | ||
軌跡球&旋鈕控制板 | ||
軟件 | 語言 | 中文 |
操作系統 | Windows | |
導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | |
自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |
科研設備丨半導體材料丨高精度檢測丨清潔度檢測丨激光刻蝕丨光柵刻蝕丨離子刻蝕丨等離子清洗丨半導體檢驗丨蔡司電鏡丨材料科研丨二維刻蝕丨傾角刻蝕丨3維超景深丨掃描電鏡丨失效分析丨共聚焦顯微鏡 XML地圖