電子束光刻系統

自動化、高產量和高可靠性的高分辨率光刻

EBPG Plus是一種超高性能電子束光刻系統。這個經過現場驗證的非常成功的系列現在已經達到了一個更高的進化水平。隨著100 kV寫入模式和5納米以下的高分辨率光刻，涵蓋了直寫納米光刻、工業R&D和各種納米制造設施中批量生產的廣泛前沿應用。產量、穩定性、保真度和精度的全新整合確保了所有性能參數之間的完美互動，從而獲得理想的高分辨率光刻結果。

功能

自動化晶圓和多樣品曝光

自動曝光參數切換和校準，實現高通量和高分辨率之間的無縫穩定切換

易于學習的圖形用戶界面和腳本終端界面

安全的多用戶環境和不同的訪問級別

建立時間非常短的極快級

自動2-或10-支架氣閘，

快速無誤的樣品對齊

實現最低線邊緣粗糙度的高級斷裂模式

使用Firebird技術進行高效的數據處理，在最短的時間內實現最高的模式保真度

使EBPG加一個非常多才多藝的電子束光刻系統，是工業和學術使用的首選。

塑造納米制造的未來

EBPG升級版提供以下獨特組合自動化, 模塊性，以及表演。直觀的用戶界面加上自動化工作流程可選的數據預處理軟件有助于用戶專注于獲得結果，而不是系統處理。有多種不同的夾具可供選擇，EPBG Plus提供無與倫比的自動化，不受晶圓或樣品幾何形狀的限制。此外，高分辨率光刻系統可以現場升級隨時配合不斷變化的需求。

進化技術

作為專業電子束光刻系統的市場領導者，我們提供在納米技術前沿不斷磨練和改進的系統。這為我們提供了自信地滿足工業客戶苛刻要求所需的經驗保證穩定性和正常運行時間。EBPG加允許24/7批處理模式操作操作員輸入最少高產量和產量。

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