離子濺射儀是掃描電子顯微鏡（SEM）最基本的樣品制備儀器，在一些情況下，通過使用離子濺射儀可以幫助掃描電鏡（SEM）獲得更好的圖像及特征點。

我們都知道掃描電鏡（SEM）基本上是可以對所以類型的試樣進行圖像處理，諸如粉末，半導體，高分子材料，陶瓷，金屬，地質材料，生物樣品等。然而有些特殊的樣品想要通過掃描電鏡（SEM）收集高質量的照片，是需要操作者使用額外的樣品制備方法，這個額外的樣品制備方法，通常是在試樣的表面濺射一層導電薄膜材料，通常在5-20nm左右。

離子濺射儀濺射哪些材料？

通常濺射的材料是金屬材料，因為導電性高，濺射顆粒小，例如GVC-2000磁控離子濺射儀，在濺射黃金靶材的時候，我們可以達到5-10nm的金屬顆粒，如果選用鉑金顆粒的直徑會更小達到5nm以內，此款儀器主要配備各大電鏡廠家生產的場方式電鏡，正是因為濺射的顆粒小，在高分辨下，圖像是沒有顆粒感，可以得到較高的質量的電鏡圖像。

此外，如果需要EDS能譜分析時，掃描電鏡（SEM）使用者，可以通過EDS分析軟件屏蔽靶材的元素選項，從而不會影響X射線與其他的元素的峰值發生沖突。

磁控離子濺射儀，可以支持多種靶材的選項，例如，鉻，銀，銅，銥等，如銅，鋁等是需要接入氬氣的，儀器預留好了氬氣接口，可以支持鏈接氬氣瓶使用，從而得到更小的金屬顆粒，獲取更高分辨率的圖像。

1.非導電材料

非導電材料，由于它們的材料本身的非導電性，其表面帶有電子陷阱，這種表面的電荷的聚集，容易造成樣品表面的放電現象，是嚴重影響到樣品的圖像質量。為了消除放電現象，我們通常的解決問題的方法是降低掃描電鏡樣品室的真空度，這樣可以將樣品表面的引入正電荷的分子，它可以與放電電子相互中和，從而消除放電現象，但是此種方法并不是獲取高分辨率的圖像的有限辦法。

獲取高分辨率高質量的掃描電鏡（SEM）圖像，建議操作人員使用離子濺射儀，在樣品表面濺射一層金屬薄膜，將放電電子從樣品表面轉移走。

2.電子束敏感樣品

對于掃描電鏡（SEM）需要噴金的另外一類樣品是電子束敏感樣品。這類樣品通常是生物樣品和高分子樣品，尤其是鋰電池隔膜等。掃描電鏡（SEM）的電子束具有較高的能力，在電子轟擊樣品的過程中，他會在樣品的表面形成能力的聚集，會對樣品的表面形成灼傷，從而損壞樣品表面的微觀相貌，這種情況下，我們會在電子束敏感樣品的表面濺射一層金屬薄膜從而起到保護作用，防止樣品的損失。 

為了準確高分辨率高質量的掃描電鏡（SEM）圖像，建議操作人員選擇使用離子濺射儀，在樣品表面濺射一層導電通路。離子濺射儀的樣品制備技術可以有效的提高掃描電鏡（SEM）圖像的質量和分辨率，在掃描電子顯微鏡的成像過程中，濺射材料可以有效的提高信噪比，從而獲取更高質量的成像。

3.離子濺射儀的缺點

由于操作簡單，在使用離子濺射儀的過程中，操作人員大可不必有太多的顧慮，在操作人員需要不斷調整離子濺射儀的參數，尋找合適的濺射效果，另外離子濺射有一個缺點是，濺射后的樣品，不再是原始的材料，元素的襯度信息會有所丟失。但在大多數的情況下，通過多次模式參數，我們既能夠得到高分辨高質量的圖像，又不會丟失樣品的原始信息。